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IMEC将光刻技术利用于OLED产品的制作,或将取缔精密金属研磨(FMM)的使用

颁布功夫:::2021-01-01 |阅读次数:::4020

          CINNO Research产业资讯,在2020年国际显示钻研会上,IMEC展示了一种使用光刻技术制作OLED显示层中有机半导体和阴极图案的技术!!!U庵止婊谱鞒龅牟酚涤型黄菩缘目康米⌒!!!O匀,这种规划有机遇取缔精密金属掩模板(FMM)的使用!!!


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该样品的展示对显示器制作商很有吸引力,终于光刻技术能够实现更高的分辨率,别的还可能增长阴极的通明度,这些都有助于在显示器内集成其他传感器!!!MEC极度愿意就此主题与行业合作同伴进行合作,别的还能够提供与此有关的定制设计服务!!!

在移动显示器领域,消费者对提高屏占比的需要一向在促使制作商设计新的外形尺寸,并在屏幕内部暗藏越来越多的职能(例如前置摄像头、指纹传感器等)!!!5比晃蘼凼窍颜呋故敲姘逯谱魃潭疾唤鲈冈谠龀ふ庑┲澳艿耐本鸵逋枷裣允局柿!!!

同样,在高端智能手机,电视和小我推算机/笔记本电脑等利用中,制作商也非?0屯呕踔猎龀び性淳卣驩LED(AMOLED)屏幕的个性,例如更丰硕的色彩、更为超薄甚至能够折叠的外形,这些都是他们关于将来产品设计的进展!!!

反观现实,目前的AMOLED产品(出格是小尺寸产品)制作宽泛使用精密金属掩模板(FMM)技术来沉积红色,绿色和蓝色发光层(EML)图案!!!1鸬,市场上也有多家公司已经证明,通过印刷解决规划(例如喷墨印刷(IJP))制作出的AMOLED显示器,其分辨率也仅超过150ppi!!!

现实上,FMM的使用不合用于大面积玻璃基板!!!A硪环矫,与蒸发工艺制作的OLED面板相比,IJP工艺制作出的产品更是会降低产品的靠得住性!!!

在此布景下,通过光刻工艺的使用,IMEC此刻提供了另一种制作路线,该路线可带来更高的设计自由度,别的,它在产品靠得住性方面也展示出令人鼓励的了局!!!

例如,IMEC可能在有机半导体的顶部以1μm的间距(线宽和间距)进行像素的图案化,这一参数制作出的产品理论上能够达到约莫12000ppi的分辨率!!!1鸬,在使用这种技术对OLED的阴极进行图案化之后,OLED前面板在较长波长下的透过率从20%增长到70%!!!8匾氖,靠得住性测试的了局批注,与通常未使用该技术进行图案化的OLED相比,这种使用新规划对阴极进行图案化的OLED,其T95寿命超过200小时,并且在1000尼特时,OLED寿命没有可丈量的差距!!!

“由于光刻技术与OLED资料之间在化学层面上的不相容性,传统意思上使用光刻工艺制作OLED器件极度拥有挑战性,”传感器技术研发项目掌管人Tung Huei Ke说,“此外,在传统的光刻环境中,OLED资料对水和氧气的敏感性也是一个很大的问题!!!!!!

“首先,OLED的子像素必要进行至少3次光刻能力实现全色AMOLED阵列的制作,所以各人都以为在屡次光刻工艺之后,上述布景下的问题会不休累积,”Ke补充说,“我们起初的尝试也证实了这一如果,这一了局让我们想烧毁选择这条路线!!!2煌,在使用光刻工艺进行屡次图案化步骤后,IMEC此刻可能制作出拥有杰出靠得住性的OLED产品!!!U馐墙饪坦ひ沼糜贠LED图案化过程的重要里程碑!!!!!!

起源::: CINNO Research


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